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【全金屬型接近傳感器 E2EW系列】心有多長(zhǎng),距離就有多長(zhǎng)

20-09-18 17:33 作者: 小個(gè)子工控

2020年第二季度,歐姆龍自動(dòng)化(中國(guó))有限公司全新發(fā)布了,用于焊裝工位及機(jī)床的加工室內(nèi)接近傳感器【全金屬型  E2EW系列】!


在上一期中,我們已經(jīng)大致為大家做了介紹。(點(diǎn)擊圖片回顧↓↓↓)


總結(jié)來(lái)說(shuō),此次的E2EW系列接近傳感器最大的亮點(diǎn),就是一個(gè)字:“長(zhǎng)”!(超長(zhǎng)的檢測(cè)距離),那么接近傳感器擁有了如此長(zhǎng)距離的檢測(cè)能力,對(duì)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)會(huì)有哪些幫助呢?


1、減少設(shè)備突發(fā)停止


在焊裝工位的到位檢測(cè)中,可能會(huì)存在鐵和鋁工件并存的情況,對(duì)于傳統(tǒng)的接近傳感器來(lái)說(shuō),檢測(cè)鐵要比檢測(cè)鋁的距離長(zhǎng),因此在設(shè)計(jì)時(shí),通常不得不將接近傳感器的安裝位置靠近,已避免檢測(cè)不穩(wěn)定的現(xiàn)象發(fā)生??墒?,距離安裝可能出現(xiàn)碰撞磨擦,造成設(shè)備停止。



保持理想距離

擁有了超長(zhǎng)的檢測(cè)距離,就能夠與檢測(cè)物體之間保持理想距離,避免發(fā)生碰撞和摩擦,減少突發(fā)停止?fàn)顩r。


2、設(shè)計(jì)工時(shí)減少


在鐵和鋁的混流生產(chǎn)線上進(jìn)行到位檢測(cè)時(shí),要實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定檢測(cè),需使用與各自的檢測(cè)距離對(duì)應(yīng)的多個(gè)尺寸的傳感器進(jìn)行設(shè)計(jì)。但是,E2EW的鐵和鋁檢測(cè)距離相同,無(wú)需根據(jù)工件改變尺寸,可實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)設(shè)備和機(jī)械圖紙的共通化。



安裝游刃有余

過(guò)去,為了防止檢測(cè)錯(cuò)誤,只能采取有接觸風(fēng)險(xiǎn)的傳感器安裝設(shè)計(jì),E2EW則擁有超長(zhǎng)檢測(cè)距離,即使隔開(kāi)一定距離也不會(huì)發(fā)生檢測(cè)錯(cuò)誤,從而實(shí)現(xiàn)減少了接觸風(fēng)險(xiǎn)的有余量的安裝設(shè)計(jì)。



3、運(yùn)行效率提高


鐵和鋁為同等的長(zhǎng)距離檢測(cè),因此即使在到位作業(yè)時(shí)工件晃動(dòng),也能通過(guò)有余量的檢測(cè)距離來(lái)減少檢測(cè)錯(cuò)誤。此外,安裝時(shí)無(wú)需嚴(yán)苛的安裝距離調(diào)整,任何人都能夠方便地進(jìn)行安裝。


例如,在汽車生產(chǎn)過(guò)程中,對(duì)于門的到位確認(rèn),一旦出現(xiàn)工件晃動(dòng)造成位置偏差,極易造成檢測(cè)錯(cuò)誤。



充足檢測(cè)余量

而長(zhǎng)距離檢測(cè),提高了檢測(cè)余量,即使工件位置發(fā)生偏差,依然能夠覆蓋到,如此一來(lái),設(shè)備就不會(huì)因?yàn)橐恍┬〉臓顩r而意外停止,提升了整體的生產(chǎn)節(jié)拍!



長(zhǎng)距離的“秘密”


以往的全金屬型接近傳感器存在檢測(cè)距離短的課題。E2EW系列將PRD*1技術(shù)與歐姆龍的干擾影響抑制技術(shù)相結(jié)合,減輕了接近傳感器長(zhǎng)距離化時(shí)成為課題的干擾影響,實(shí)現(xiàn)了長(zhǎng)距離化。并且,通過(guò)對(duì)檢測(cè)物體上產(chǎn)生的電流變化的檢測(cè)時(shí)序和時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,實(shí)現(xiàn)了鐵和鋁同等的長(zhǎng)距離檢測(cè)。


■ 干擾影響抑制技術(shù)

專利申請(qǐng)中*2

通過(guò)將脈沖狀的電流的時(shí)序隨機(jī)化,減輕恒定周期干擾對(duì)檢測(cè)信號(hào)的影響。



■ 鐵和鋁均長(zhǎng)距離檢測(cè)


*1 PRD(Pulse Response Detection)是指,在線圈中有脈沖狀的電流流過(guò)時(shí),對(duì)檢測(cè)物體上產(chǎn)生的電流變化進(jìn)行檢測(cè)的技術(shù)。
*2 “專利申請(qǐng)中/已獲得專利”的標(biāo)記表示在日本國(guó)內(nèi)正在申請(qǐng)專利或已獲得專利。(到2019年6月為止)



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